產(chǎn)品中心
Products
產(chǎn)品中心ICP-MS
Introduction
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
PlasmaQuant MS無以倫比的高靈敏度實(shí)現(xiàn)了業(yè)內(nèi)最低檢測(cè)限。卓越的質(zhì)譜分辨率和低豐度同位素最佳檢測(cè)靈敏度使PlasmaQuant MS在超低痕量分析、超低濃度形態(tài)分析、直徑小于10nm的單納米顆粒物分析和高精密度同位素比值分析等應(yīng)用領(lǐng)域獲得最佳的分析結(jié)果。
PlasmaQuant MS卓越的靈敏度使其能夠在確保精密度和重復(fù)性的前提下顯著縮短分析時(shí)間。專利的質(zhì)譜干擾消除系統(tǒng)iCRC可高效、簡(jiǎn)潔、快速地消除ICP-MS分析中的質(zhì)譜干擾，不同氣體模式之間的快速切換及專利的BOOST技術(shù)，即便應(yīng)對(duì)要求苛刻的樣品依然可以輕松獲得出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的分析速度。
PlasmaQuant MS
強(qiáng)勁穩(wěn)健的等離子體及高效簡(jiǎn)潔的干擾消除管理系統(tǒng)，簡(jiǎn)單易用。最小化高基體樣品及基體切換時(shí)帶來的系統(tǒng)漂移。
PlasmaQuant MS Elite
通過離子聚焦參數(shù)調(diào)節(jié)、最短駐留時(shí)間、最佳質(zhì)量分辨等實(shí)現(xiàn)附件的最優(yōu)化連接操作。
PlasmaQuant MS卓越的靈敏度使其能夠在確保精密度和重復(fù)性的前提下顯著縮短分析時(shí)間。專利的質(zhì)譜干擾消除系統(tǒng)iCRC可高效、簡(jiǎn)潔、快速地消除ICP-MS分析中的質(zhì)譜干擾，不同氣體模式之間的快速切換及專利的BOOST技術(shù)，即便應(yīng)對(duì)要求苛刻的樣品依然可以輕松獲得出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的分析速度。
PlasmaQuant MS
強(qiáng)勁穩(wěn)健的等離子體及高效簡(jiǎn)潔的干擾消除管理系統(tǒng)，簡(jiǎn)單易用。最小化高基體樣品及基體切換時(shí)帶來的系統(tǒng)漂移。
PlasmaQuant MS Elite
通過離子聚焦參數(shù)調(diào)節(jié)、最短駐留時(shí)間、最佳質(zhì)量分辨等實(shí)現(xiàn)附件的最優(yōu)化連接操作。
parameters
產(chǎn)品參數(shù)
技術(shù)參數(shù)
- 超高靈敏度： 靈敏度【cps/ppm】低質(zhì)量數(shù)：7Li ≥100 M，中質(zhì)量數(shù)：115In ≥500 M，高質(zhì)量數(shù)：238U ≥500 M; 氧化物產(chǎn)率（CeO+/Ce+）：≤1.8 %
- 最低運(yùn)行成本：氬氣消耗降低50%
- 高效：樣品分析速率提升 50%
- 穩(wěn)定：輕松應(yīng)對(duì)各種復(fù)雜基體，確保優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性
- 靈活：根據(jù)不同應(yīng)用多樣化配置儀器
訂貨信息
